國科會基礎研究核心設施
奈米製程領域 Nanofabrication
光罩對準曝光機 Double Side Mask Aligner
#交大校區,奈米中心,儀器位置:固態電子系統大樓 1樓137實驗室
氧化擴散系統 Oxidation & Diffusion Furnaces
OXIDATION & DIFFUSION FURNACES
廠牌型號:森積 SJ-CA1200-D4
儀器專家:劉柏村 教授(分機 52994)
儀器設備管理人員:林聖欽 先生 (分機 55668、55610)
儀器位置:固態電子系統大樓121室
廠牌型號:森積 SJ-CA1200-D4
儀器專家:劉柏村 教授(分機 52994)
儀器設備管理人員:林聖欽 先生 (分機 55668、55610)
儀器位置:固態電子系統大樓121室
光罩製作系統(圖形產生系統)
光罩製作系統
圖形產生系統
儀器專家:李佩雯教授
分機54210
儀器諮詢與操作服務:蔡慶祥 先生、黃國華 先生
黃國華 先生 (分機 55659、55667、55616)
蔡慶祥 先生 (分機 55605、55616)
儀器位置:固態電子系統大樓139及118室
三五族分子束磊晶系統
III-V MOLECULAR BEAM EPITAXY SYSTEM
廠牌型號:Veeco Modular GEN II solid source III-V MBE
儀器專家:林聖迪 教授
分機 31240
信箱 sdlin@mail.nctu.edu.tw
儀器諮詢與操作服務:吳儲君…
高真空鍍膜系統 (High Vacuum Deposition System)
高真空鍍膜系統 (High Vacuum Deposition System)
真空濺鍍系統 A (Sputtering System A)
真空濺鍍系統 B (Sputtering System B)
儀器位置:固態電子系統大樓 3 樓實驗室
原子層沉積系統 Atomic Layer Chemical Vapor Deposition System
原子層化學氣相沉積系統
固態電子系統大樓129室
儀器專家:趙天生 教授
分機:31367
技術員:詹佳期先生
技術員分機:55662(O)、55616(L)
熱蒸鍍系統 Thermal Evaporation System
代碼:SEMI00001300
領域:奈米製程
名稱:熱蒸鍍系統
熱阻絲蒸鍍系統 (Thermal Evaporation Coater)
雙電子槍蒸鍍系統A (Dual E-Gun Evaporation System A)
雙槍蒸鍍系統B (Dual E-Gun Evaporation System B)
儀器專家:鄭裕庭…
導電性材料活性離子蝕刻系統 (HDP-RIE, Si Deep-RIE, Shallow Si RIE)
高密度活性離子蝕刻系統 (High Density Plasma Reactive Ion Etching System, HDP-RIE)
矽深蝕刻系統 (Si Deep-RIE)
矽淺蝕刻系統 (Shallow Si RIE)
儀器位置:固態電子系統大樓 1樓116…
聚焦離子束與電子束顯微系統 Dual beam System FIB
儀器位置:工程六館 213室
儀器專家:吳耀銓教授 分機31555、崔秉鉞教授 分機31570;
儀器設備管理人員:劉悅恩 小姐 分機 55658/55368
冷場發射掃描式電子顯微鏡暨能量散佈分析儀器
儀器位置:工程六館2樓212室實驗室 (TEL:55337)
儀器專家:譚至善 教授 分機54146;儀器諮詢與操作服務:范秀蘭 小姐 分機55337/55672
介電材料活性離子蝕刻系統 ( RIE-400iP, RIE-200L)
儀器位置:固態電子系統大樓 1樓116及121實驗室
介電材料活性離子蝕刻系 A (Dielectric Material RIE-400iP)
介電材料活性離子蝕刻系統 B (Dielectric Materials Reactive Ion Etching System, RIE…
電漿輔助化學氣相沉積系統 PECVD
儀器位置:固態電子系統大樓 1樓 116實驗室 (TEL:55666)
儀器專家:林鴻志 教授 分機54193;儀器諮詢與操作服務:賴玟言 先生 分機55606/55616
低壓化學氣相沉積系統 LPCVD
Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD)
廠牌型號:SJ-10301001-1
儀器專家:劉柏村
教授分機 52994
儀器諮詢與操作服務:賴玟言 先生
分機 55606、55616
儀器位置:固態電子系統大樓 1樓127
實驗室分機 55616