奈米製程

#交大校區，奈米中心，儀器位置：固態電子系統大樓 1樓137實驗室

OXIDATION & DIFFUSION FURNACES
廠牌型號：森積 SJ-CA1200-D4
儀器專家：劉柏村 教授（分機 52994）
儀器設備管理人員：林聖欽 先生
（分機 55668、55610）
儀器位置：固態電子系統大樓121室

光罩製作系統
圖形產生系統

儀器專家：李佩雯教授
分機54210

儀器諮詢與操作服務：蔡慶祥 先生、黃國華 先生
黃國華 先生 (分機 55659、55667、55616)
蔡慶祥 先生 (分機 55605、55616)

儀器位置：固態電子系統大樓139及118室

III-V MOLECULAR BEAM EPITAXY SYSTEM
廠牌型號：Veeco Modular GEN II solid source III-V MBE

儀器專家：林聖迪 教授
分機 31240
信箱 sdlin@mail.nctu.edu.tw

儀器諮詢與操作服務：吳儲君 小姐
分機 54248、55665
信箱 isabelwu@nctu.edu.tw

儀器位置：奈米中心1樓R110室

高真空鍍膜系統 (High Vacuum Deposition System)
真空濺鍍系統 A (Sputtering System A)
真空濺鍍系統 B (Sputtering System B)
儀器位置：固態電子系統大樓 3 樓實驗室

原子層化學氣相沉積系統
固態電子系統大樓129室
儀器專家：趙天生 教授
分機:31367
技術員：詹佳期先生
技術員分機：55662(O)、55616(L)

代碼：SEMI00001300

領域：奈米製程

名稱：熱蒸鍍系統
熱阻絲蒸鍍系統 (Thermal Evaporation Coater)
雙電子槍蒸鍍系統A (Dual E-Gun Evaporation System A)
雙槍蒸鍍系統B (Dual E-Gun Evaporation System B)

儀器專家：鄭裕庭 教授 （分機 54169）

儀器設備管理員：倪月珍小姐、林聖欽先生
分機 55669(O)、55668(O)、55608(L)

儀器位置：固態電子大樓3樓

高密度活性離子蝕刻系統 (High Density Plasma Reactive Ion Etching System, HDP-RIE)
矽深蝕刻系統 (Si Deep-RIE)
矽淺蝕刻系統 (Shallow Si RIE)
儀器位置：固態電子系統大樓 1樓116 & 127實驗室

儀器位置：工程六館 213室
儀器專家：吳耀銓教授 分機31555、崔秉鉞教授 分機31570；
儀器設備管理人員：劉悅恩 小姐 分機 55658/55368

儀器位置：工程六館2樓212室實驗室 (TEL：55337)
儀器專家：譚至善 教授 分機54146；儀器諮詢與操作服務：范秀蘭 小姐 分機55337/55672